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シナジーセラミックの特許普及データシート ００８
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セラミックス微細パターン形成用モールド膜、その使用及びその製造方法 | ||||
| 応用分野 適用分野 |
電気、電子、半導体 |
製品名称 フォトリソパターン形成用基板 部品名称 フォトリソパターン形成用膜 | |||
| 実施許諾の意思 |
有り |
希望売込先 | 半導体基板製造メーカー マイクロマシン開発会社 |
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| 材料･材質 |
含フッ素ポリマー | ||||
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発明の概要･技術内容 |
セラミックス、金属および半導体の微細パターンを形成する際に、パターン化した撥水・撥油性有機高分子膜を予め基板上に形成しておき、そのパターン膜にセラミックゾルやセラミックスラリー等のセラミック前駆体を充填する。パターン膜が撥水・撥油性であるため、パターンの空隙部のみに前駆体が充填される。本発明は微細パターンを持つ撥水・撥油性の有機高分子膜およびその使用方法に関する。 |
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| 定量的メリット･効果 本方法で用いる撥水・撥油性有機高分子ポリマーは1～100ミクロンメーターのスケールでパターン化でき膜厚も数百ナノメーターから数百ミクロンメーターまで自由に設定で きることから電磁気回路、光導波路、マイクロマシン等に好適に利用できる。 |
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| セールスポイント 本方法では撥水・撥油性有機高分子ポリマーを用いるため、パターン空隙部のみにセラミック前駆体スラリーが充填される。これにより形成可能な微細パターンの種類を増やすことができ、またプロセスが簡略化される。 |
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| その他の効果及び波及分野 本発明で用いる撥水・撥油性有機高分子ポリマーは酸・アルカリ等に対して安定であり、耐熱性も150℃程度までは変形しないなど、一般のプラスチックスに比べて化学的・機械的特性に優れている。このポリマー自身をマイクロマシンの部品として用いることもできる。 |
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| 出願番号 公開番号 |
特願平9-208564 出願日 H9.7.17 |
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| 公告番号 登録番号 |
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| 外国出願 |
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| 出願人 |
１．ファインセラミックス技術研究組合 |
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| 発明者 |
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| 技術の問い合わせ先 | 氏名：近藤新二
所属：旭硝子㈱ 中央研究所 硝子･ｾﾗﾐｯｸｽ領域研究所 TEL:045-374-8768 FAX:045-374-8868 E-mail:shinji@agc.co.jp |
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| 関連特許文献 |
Nakao
et.al., Jpn. J. Appl. Phys., vol.32 (1993) 4141-4143. W.Ehrfeld, 90-Proceedings of 1st International Conference on Micro Electro, Opt, Mechan ic Systems and Components, Ed. H. Reichl, Berlin (1990), Springer Verlage pp521-528. |
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| 備考 （専門用語の説明等） |
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