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シナジーセラミックの特許普及データシート ２１4
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| 名称 |
窒化ケイ素焼結多孔質体及びその製法 |
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| 応用分野 適用分野 |
高温ｶﾞｽﾌｨﾙﾀｰ | 製品名称 部品名称 |
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| 実施許諾の意思 |
有り | 希望売込先 | |||
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ノウハウの提供の有無 |
無し | サンプルの提供の 有無 |
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| 従来技術との比較 | 従来の焼結法による多孔質体の製法は、焼結による緻密化を途中で止め、制御することによっていたが、そのために多孔質体の強度が低く、気孔率が低くなっていた。本発明によれば、焼結収縮を拘束焼結により抑制し、高温焼成により焼結粒子間のネック成長を促進できるので、気孔率を高く保ち、高強度化可能な多孔質体及びその製法が得られる。 | ||||
| 開発レベル | ・要素試験（効果確認） | ||||
| 有望応用先 と商用化までの 開発項目 | 実製品形状での特性評価 | ||||
| 材料･材質 |
窒化珪素 | ||||
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発明の概要･技術内容 |
高気孔率、高強度でﾌｨﾙﾀや膜支持体に適した多孔質体と、それを容易に製造する方法を提供する。 |
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| 定量的メリット･効果 気孔率５０％以上にて、強度UPの可能性有り。 |
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| セールスポイント 高気孔率、高強度をもった窒化珪素製多孔質材料、部品を提供する。 |
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| その他の効果及び波及分野 熱衝撃やFODに対する損傷抵抗の高い材料が得られる。 |
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| 出願番号 公開番号 |
特願平2000-346637出願日H12.11.14 特開平2002-154881公開日H14.05.28 |
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| 公告番号 登録番号 |
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| 外国出願 |
無し | ||||
| 出願人 |
1.
独立行政法人産業技術総合研究所 2. ファインセラミックス技術研究組合 3. |
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| 発明者 |
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| 技術の問い合わせ先 | 氏名：岩井田智広 所属 京セラ総合研究所 TEL：0995-45-5200 FAX：0995-45-0822 E-mail：Toshihiro_Iwaida@rdg.kyocera.co.jp |
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| 関連特許文献 |
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| 備考 （専門用語の説明等） |
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特許普及データシート補足用図及び表等
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名 称
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多孔質体及びその製造方法
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